设备性能
可控传送高速度:0.5-3m/min常規运转快慢:2.5m/min生产能力: Up to 4000 Wafers/H@20mm Up to 6800 Wafers/H@20mm Up to 8000 Wafers/H@20mm设配能够采取率:≥98%刻蚀高度面积:3.5~4.5μm魂晶率:≤0.03%硅片规格
硅片薄厚:≥140μm硅片面积:156.75*156.75mm-212*212mm设备尺寸
长*宽*高:可根据设计制定长宽比传动
传动装置款式:5 lane/6 lane轴间隙:60mm主传动装置轴:17mm,Hexagon机械传动滑动:Φ32mm目标方向
运行导向:Left→Right / Right→Left(TBD)电力供应
用电:AC380V 3PH+PE+N 50Hz(TBD)抑制外接电源:DC 24V载满电原:75A意见最好保险公司丝规格型号:100A安装要求
较大地面的承担:75Kg/㎡比较低車间高宽比:3.5m没有灰尘室职务级别:ISO7(10K Class)氛围的温度:17℃<RT<30℃最明显含水率:70%